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磁控濺射單體鍍膜設備
磁控濺射光學鍍膜設備配置以GVAC自主開發(fā)的孿生旋轉靶結構和布局,克服陽極消失和靶面打火現象,采用公自轉方式傳動,在手機、平板、車載顯示等3C產品的蓋板、中框、后蓋上鍍制減反、增硬、顏色膜層等光學膜層。